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選擇高周波設(shè)備的優(yōu)點(diǎn)

一.高頻介質(zhì)加熱,也可稱為高周波設(shè)備是靠處在高頻電場(chǎng)中材料自身的高頻損耗而發(fā)熱。減少了由于傳導(dǎo),輻射等造成的熱損耗,提高了加熱效率。

二.只要高頻電場(chǎng)是均勻的(比如平板電容之間)則處在高頻電場(chǎng)材料的加熱就是均勻的,只是一般傳導(dǎo)加熱無(wú)法比擬的。

三.由于材料是處在電容的所形成的電容高頻電場(chǎng)中才能被加熱,只要根據(jù)需要,把電容的電極(模具)做成不同形狀,就可以對(duì)材料做到有選擇的加熱。無(wú)模具處的材料將不會(huì)被加熱。這又進(jìn)一步提高了加熱效率。

四.由于加熱功率很容易做到可控,可調(diào)。因此可以適用不同的加熱要求,便于實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化生產(chǎn)。

五.適當(dāng)?shù)脑O(shè)置電極和容器,還可實(shí)現(xiàn)真空狀態(tài)中加熱材料。

正因?yàn)楦哳l介質(zhì)加熱有諸多優(yōu)點(diǎn),因此被廣泛應(yīng)用在高頻干燥,成型,壓花;高頻膠合高頻熔接;食品藥品殺菌,高頻應(yīng)用理療,半導(dǎo)體提純,熔煉,等離子發(fā)生器等領(lǐng)域。

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